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Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen

Innovation Champion DE Wirtschaft Platz 42
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Carl Zeiss SMT GmbH

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Carl Zeiss SMT GmbH

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Risiko-Report
Carl Zeiss SMT GmbH
Risk Level Evaluation Source
Sanktioniert (?)
Kartellrechtliche Verfahren (?)

Name

Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG

Identifikation

Ut
Amtsgericht Ulm HRB 725667
Ut
Amtsgericht Ulm HRB 501473
Kvk
Kamer van Koophandel 69204519
Lei
529900DAXFMKONEX8260
EUID
DEB8537.HRB725667

Adresse

Rudolf-Eber-Str. 2, D-73447 Oberkochen

Gegenstand

Die Entwicklung, Herstellung, Be- und Verarbeitung sowie der Vertrieb von optischen, elektronen-optischen, elektronischen und feinmechanischen Erzeugnissen, Instrumenten und sonstigen Geräten zur Verwendung in der Halbleiterindustrie einschließlich der Erbringung von damit zusammenhängenden Dienstleistungen.

Historie

Personen

Marketing & Tech

M & A / Kontrolle

Netzwerk

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Rechtliche Struktur

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Premium
2Geschäftsführer
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Gesellschafter und Investoren
Ein bekannter Anteilseigner
Portfolio
Eine bekannte aktive Beteiligungl
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Publikationen

Jahr 2026 in Epobase
16 europäische Patentbekanntmachungen: Mikroelektromechanische Vorrichtung …
Jahr 2026 in Dpmap
293 Patentanmeldungen: Anlage für die Halbleiterlithografie zur Vermessung und/oder Registrierung von Strukturen und Verfahren zur Vermessung und/oder Registrierung von Strukturen …
15.07.2026 über Carl Zeiss AG auch 12.08.2025, 06.08.2024, 19.06.2024, 21.07.2023, 19.07.2023, 23.06.2022, 22.06.2022, 01.06.2021, 05.05.2021, 13.07.2020, 06.07.2020, 02.08.2019, 16.08.2018, 16.08.2018, 07.06.2017, 01.06.2017, 03.08.2016, 03.08.2016, 31.07.2015, 08.07.2015, 14.07.2014, 02.05.2014, 20.06.2013, 12.06.2013 und 10 weitere
Gesellschafter: Carl Zeiss AG
Jahr 2025 in Dpmap
699 Patentanmeldungen: Anpassbare Blende für eine Projektionsbelichtungsanlage, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zum Anpassen einer Anpassbaren Blende …
Jahr 2025 in Epobase
33 europäische Patentbekanntmachungen: Messverfahren zur Interferometrischen Bestimmung einer Oberflächenform …
05.12.2025
Auf­sichts­rats­lis­te
18.11.2025
Aufsichtsrat
23.10.2025
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 23.10.2025«
01.10.2025 in Fk
Förderung (1.801.540 €): Chip-Design und Prozesstechnologien für die 10 Angstrom Lithographie in der Chip-Produktion - ACT10 -
11.09.2025
Wortmarke: »Dune«
05.08.2025
Wortmarke: »NLX«
04.07.2025
Aufsichtsrat
01.07.2025 in Fk
Förderung (635.520 €): Fortschrittliche Aufbau- und Verbindungstechnologien für hohe Zuverlässigkeit in Automobil, Industrie und Energieversorgung - HyPACT -
26.06.2025
Auf­sichts­rats­lis­te
11.06.2025
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 11.06.2025«
26.05.2025 in Hor
EU-Förderung (1.801.624 €): Fortschrittliche CMOS-Technologie für 10-A-Knoten
14.03.2025
Prokura: Wolfgang Seitz
17.01.2025
Geschäftsführer: Frank Rohmund · Nicht mehr Geschäftsführer: Andreas Peter Pecher
Jahr 2024 in Dpmap
907 Patentanmeldungen: Ansteuerung einer Optischen Abbildungseinrichtung …
Jahr 2024 in Epobase
63 europäische Patentbekanntmachungen: Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur eines Optischen Elements mit Inhomogenen Materialeigenschaften …
05.12.2024
Wortmarke: »NaWoTec«
18.11.2024
Aufsichtsrat
15.11.2024
Auf­sichts­rats­lis­te
22.10.2024
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 22.10.2024«
20.09.2024
Wortmarke: »INTUITIVES 3D«
20.09.2024
Wortmarke: »EXPLORE 3D«
01.05.2024 über Tokyo Electron Europe Ltd.
EU-Förderung (2.091.280 €): 10 Angström CMOS-Erkundung
01.05.2024 in Fk
Förderung (1.045.780 €): Technologien für die 10 Angstrom Lithographie in der Chip-Produktion - 10ACe -
26.04.2024
Prokura: Christoph Hensche
Jahr 2023 in Dpmap
846 Patentanmeldungen: Bearbeitungsanordnung, Vorrichtung, Verfahren, Spülplatte und Verwendung …
Jahr 2023 in Epobase
63 europäische Patentbekanntmachungen: Computerimplementiertes Verfahren, Computerlesbares Medium, Computerprogrammprodukt und Entsprechende Systeme zur Erzeugung von Luftbildern von …
10.08.2023
Auf­sichts­rats­lis­te
08.08.2023
Aufsichtsrat
25.07.2023
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 25.07.2023«
04.07.2023
Aufsichtsrat
03.07.2023
Auf­sichts­rats­lis­te
06.06.2023
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 06.06.2023«
01.05.2023 über CSEM Centre Suisse d'Electronique et de Microtechnique SA - Recherche et Développement
EU-Förderung (2.280.377 €): 14 Integration von Angström-Modulen
01.05.2023 in Fk
Förderung (472.400 €): Modulentwicklung für die 14 Angstrom Lithographie in der Chip-Produktion - 14AMI -
29.03.2023
Aufsichtsrat
Jahr 2022 in Dpmap
760 Patentanmeldungen: Verfahren zum Bestimmen einer temperaturabhängigen Längenänderung einer Probe …
Jahr 2022 in Epobase
54 europäische Patentbekanntmachungen: Verfahren zum Erzeugen Mindestens einer Hohlstruktur, Spiegel und EUV-Lithographiesystem …
01.12.2022 über Tokyo Electron Europe Ltd.
EU-Förderung (3.768.025 €): 14 Anstrom CMOS-IC-Technologie
09.09.2022
Nicht mehr Geschäftsführer (1 Person)
01.08.2022
Prokura: Christoph Hensche
07.07.2022 in Fk
Förderung (376,7 Mio. €): Zukünftige EUV Lithografie-Optiken für die integrierten Schaltkreise von morgen - EUV2027
25.02.2022
Nicht mehr Inhaber: Wortmarke: »PGA«
24.02.2022
Prokura: Jens Werner
24.02.2022
Auf­sichts­rats­lis­te
17.02.2022
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 17.02.2022«
20.01.2022
Geschäftsführer: Andreas Peter Pecher · Nicht mehr Geschäftsführer: Markus Weber
Jahr 2021 in Dpmap
585 Patentanmeldungen: Bauteilverbindung, Lithographieanlage und Verfahren zum Auslegen einer Bauteilverbindung …
Jahr 2021 in Epobase
49 europäische Patentbekanntmachungen: Spiegelsystem …
01.07.2021 in Fk
Förderung (550.682 €): Herstellungstechnologien und -Prozesse für hochperformante 2nm-Elektronik - ID2PPAC -
01.07.2021 in Fk
Förderung (2.936.113 €): Herstellungstechnologien und -Prozesse für hochperformante 2nm-Elektronik - ID2PPAC -
21.05.2021 in Hor
EU-Förderung (4.094.071 €): Integration von Prozessen und MoDules für den 2 nm-Knoten, der die Anforderungen von Power Performance Area und Cost erfüllt
Jahr 2020 in Dpmap
578 Patentanmeldungen: Optisches System für eine Lithographieanlage …
Jahr 2020 in Epobase
46 europäische Patentbekanntmachungen: Optische Elemente Enthaltend Magnetostriktives Material …
05.08.2020
Wortmarke: »CIRGEN«
23.06.2020
Wortmarke: »MAVRIX«
01.06.2020 in Hor
EU-Förderung (2.782.398 €): IC-Technologie für den 2nm-Knoten
01.06.2020 in Fk
Förderung (1.933.003 €): Technologien für die neueste 2nm-Mikroelektronik - IT2 -
05.02.2020
Wortmarke: »ZIELE«
Jahr 2019 in Dpmap
674 Patentanmeldungen: Verfahren zum Betreiben einer industriellen Maschine …
Jahr 2019 in Epobase
88 europäische Patentbekanntmachungen: Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts …
12.12.2019
Auf­sichts­rats­lis­te
27.11.2019
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 27.11.2019«
23.10.2019
Geschäftsführer: Markus Weber
17.10.2019
Vorstand: Markus Weber · Nicht mehr Geschäftsführer: Karl Lamprecht
01.10.2019 in Fk
Förderung (5.200.962 €): Pilotlinie für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - PIN3S -, Teilvorhaben: Pilot-Integration Photo- und Elektronenoptischer Systeme für den 3nm …
03.09.2019
Wortmarke: »Starlith«
20.05.2019 in Hor
EU-Förderung (5.913.176 €): Pilotintegration der 3nm Semiconducter Technologie
Jahr 2018 in Dpmap
678 Patentanmeldungen: Optisches Modul und Lithographieanlage …
Jahr 2018 in Epobase
78 europäische Patentbekanntmachungen: Spiegel für EUV-Lithografie …
06.11.2018
Wortmarke: »RepScan«
06.11.2018
Wortmarke: »RepScan«
01.10.2018 in Fk
Förderung (3.999.177 €): Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -, Teilvorhaben: EUV Projektionsobjektiv für die 3nm Auflösung
22.08.2018
Geschäftsführer: Torsten Reitze · Nicht mehr Geschäftsführer: Axel Jaeger
28.06.2018 in Hor
EU-Förderung (4.156.250 €): Technologiefortschritte für Pilotlinie von Enhanced Semiconductors für 3nm
13.06.2018
Auf­sichts­rats­lis­te
06.06.2018
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 06.06.2018«
17.05.2018
Wortmarke: »AIMS«
17.01.2018
Auf­sichts­rats­lis­te
08.01.2018
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 08.01.2018«
Jahr 2017 in Dpmap
667 Patentanmeldungen: EUV-Lithographiesystem und Betriebsverfahren dafür …
Jahr 2017 in Epobase
72 europäische Patentbekanntmachungen: Anpassung einer Trajektorie …
27.06.2017
Ge­sell­schafts­ver­trag
22.06.2017
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
15.05.2017
Gewinnabführung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Beherrschung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Nicht mehr Beherrschung: Carl Zeiss AG · Nicht mehr Gewinnabführung: Carl Zeiss AG
15.05.2017
Gewinnabführung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Beherrschung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Nicht mehr Beherrschung: Carl Zeiss AG · Nicht mehr Gewinnabführung: Carl Zeiss AG
01.04.2017 in Hor
EU-Förderung (5.596.579 €): Technologiefortschritte und Schlüssel-Enabler für Modulintegration für 5 nm
06.03.2017
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
14.02.2017
Nicht mehr Geschäftsführer (1 Person) · Ge­sell­schafts­ver­trag
16.01.2017 in Fk
Förderung (52,4 Mio. €): EUV Optiksysteme für sub-10nm Auflösung - Aufbau einer ersten Fertigungslinie
10.01.2017
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
Jahr 2016 in Dpmap
573 Patentanmeldungen: Beleuchtungsoptik …
Jahr 2016 in Epobase
71 europäische Patentbekanntmachungen: Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik …
13.12.2016
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
12.12.2016
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
07.12.2016
Geschäftsführer: Karl Lamprecht
06.10.2016
Auf­sichts­rats­lis­te
05.10.2016
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 05.10.2016«
23.09.2016 über Centre National DE LA Recherche Scientifique
EU-Förderung (249.216 €): Niedrigenergie-ELEctron-getriebene Chemie zum Vorteil aufkommender NAno-Fertigungsmethoden
02.08.2016
Auf­sichts­rats­lis­te
27.07.2016
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 27.07.2016«
01.04.2016 in Hor
EU-Förderung (3.600.000 €): Technologiefortschritte und Key Enabler für 5 nm
01.04.2016 in Fk
Förderung (3.598.844 €): Fertigungsprozesse integrierter Schaltungen mit bisher unerreichten Strukturgrößen von bis zu 5 nm - TAKE5 -, Teilvorhaben: EUV Beleuchtungsoptik für 5 nm Projektionssysteme
08.03.2016
Auf­sichts­rats­lis­te
01.03.2016
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 01.03.2016«
03.02.2016
Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2015 in Dpmap
476 Patentanmeldungen: Beleuchtungsoptik sowie abbildende Optik für ein Metrologiesystem für die Untersuchung eines Objekts mit EUV-Beleuchtungs- und Abbildungslicht sowie Metrologiesystem mit einer …
Jahr 2015 in Epobase
99 europäische Patentbekanntmachungen:  …
01.10.2015 in Fk
Förderung (757.572 €): Robuste Multisensorik zur Zustandsüberwachung in Industrie-4.0-Anwendungen - RoMulus -, Teilvorhaben: MEMS-Modellbildung und Industrie 4.0-Anwendungen in der Optik
20.07.2015
Wortmarke: »NaWoTec«
20.07.2015
Wortmarke: »NaWoTec«
30.06.2015
Wortmarke: »iTRAP«
18.05.2015 über Carl Zeiss SMS GmbH auch 04.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss SMS GmbH
12.05.2015 über Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Verschmelzung: Carl Zeiss Laser Optics GmbH
12.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss Laser Optics GmbH
12.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss SMS GmbH
12.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss SMS GmbH
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
15.04.2015
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
01.04.2015 in Hor
EU-Förderung (2.357.991 €): Sieben-Nanometer-Technologie
01.04.2015 in Fk
Förderung (2.273.731 €): Seven Nanometer Technology - SeNaTe -, Teilvorhaben: Projektionsobjektiv mit Sieben Nanometer Auflösung
01.04.2015 in Fk
Förderung (43.162 €): Seven Nanometer Technology - SeNaTe -, Teilvorhaben: Reparatur und lokale Behebung von Defekten auf EUV Masken durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse
28.01.2015
Auf­sichts­rats­lis­te
21.01.2015
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 21.01.2015«
Jahr 2014 in Dpmap
421 Patentanmeldungen: Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik …
Jahr 2014 in Epobase
63 europäische Patentbekanntmachungen: Prüfvorrichtung für EUV-Optik …
01.10.2014 in Fk
Förderung: European 450mm Lithography and Metrology Development for Advanced Patterning - E450LMDAP -, Teilvorhaben: Image Placement Optimizer, high NA EUV Projektionssystem and hyper NA EUV …
16.09.2014
Wortmarke: »Predict«
16.09.2014
Wortmarke: »Predict«
11.08.2014
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person)
25.06.2014
Wortmarke: »FAVOR«
Jahr 2013 in Dpmap
295 Patentanmeldungen: Facettenspiegel mit im Krümmungsradius einstellbaren Spiegel-Facetten und Verfahren hierzu …
Jahr 2013 in Epobase
94 europäische Patentbekanntmachungen:  …
19.11.2013
Gewinnabführung: Carl Zeiss AG · Beherrschung: Carl Zeiss AG
19.11.2013
Auf­sichts­rats­lis­te
19.11.2013
Wortmarke: »NaWoTec«
19.11.2013
Wortmarke: »NaWoTec«
29.10.2013 über Carl Zeiss SMS GmbH
Beherrschung, Gewinnabführung: Carl Zeiss SMS GmbH
28.10.2013
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 28.10.2013«
25.09.2013 über Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Beherrschung, Gewinnabführung: Carl Zeiss Laser Optics GmbH
16.09.2013
Originaldokument: »Unternehmensvertrag / Umwandlungsvertrag / sonstiger Vertrag«
09.07.2013
Nicht mehr Prokura (1 Person)
22.05.2013
Auf­sichts­rats­lis­te
29.04.2013
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 29.04.2013«
27.02.2013
Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2012 in Dpmap
204 Patentanmeldungen: Verfahren zur Herstellung eines Reflektierenden Optischen Elements für EUV Lithographie …
Jahr 2012 in Epobase
87 europäische Patentbekanntmachungen:  …
13.11.2012
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
07.08.2012
Prokura: Andreas Zeiler · Nicht mehr Prokura (1 Person)
01.07.2012 in Fk
Förderung (124.260 €): 'Schaltplan-basierter Entwurf von MEMS für Anwendungen in Optik und Robotik' (MEMS2015) Teilprojekt: Erstellung von Anforderungen und Erprobung der integrierten MEMS - ASIC …
19.06.2012
Auf­sichts­rats­lis­te
01.06.2012 in Fk
Förderung (4.561.520 €): EUV-Projektionsoptik für 14nm Auflösung (ETIK) - Teilvorhaben: EUV Beleuchtungssystem und Spiegelfreiformflächentechnologie
21.05.2012
Geschäftsführer: Axel Jaeger
21.05.2012
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 21.05.2012«
08.05.2012
Geschäftsführer: Axel Jaeger
23.04.2012
Geschäftsführer: Axel Jaeger · Nicht mehr Geschäftsführer (1 Person)
12.03.2012
Auf­sichts­rats­lis­te
21.02.2012
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person)
13.02.2012
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 13.02.2012«
08.02.2012
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2011 in Dpmap
177 Patentanmeldungen: Metrologiesystem …
Jahr 2011 in Epobase
82 europäische Patentbekanntmachungen: Projektionssystem mit einem polarisationsmodulierenden optischen Element mit variabler Dicke …
Jahr 2011 in Dpmam
1 Wortmarke: ArTeMiS, Enabling the Nano Age World, FlexIllu, MeRiT, NaWoTec, RegC …
15.06.2011
Patent: Optische Beleuchtungseinheit für die EUV-Mikrolithografie
15.06.2011
Patent: Optische Beleuchtungseinheit für die EUV-Mikrolithografie
19.05.2011
Gewinnabführung: Carl Zeiss AG · Beherrschung: Carl Zeiss AG
05.05.2011
Gewinnabführung: Carl Zeiss AG · Beherrschung: Carl Zeiss AG
15.02.2011
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
14.02.2011
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
08.02.2011
Auf­sichts­rats­lis­te
28.01.2011
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 28.01.2011«
25.01.2011
Nicht mehr Prokura (2 Personen) · Prokura (1 Person)
11.01.2011
Nicht mehr Prokura (2 Personen) · Prokura (1 Person)
Jahr 2010 in Dpmap
119 Patentanmeldungen: Reflektives optisches Element mit einer Messeinrichtung …
Jahr 2010 in Epobase
57 europäische Patentbekanntmachungen:  …
Jahr 2010 in Epobase
12 europäische Patentbekanntmachungen: Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektions-Mikrolithographie, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils …
28.10.2010
Wortmarke: »RegC«
20.10.2010
Ppa (5 Personen) · GF (3 Personen) · Formwechsel: Aktiengesellschaft Carl Zeiss SMT AG · Anschrift · Kapital: 50 Mio. € · Ge­sell­schafts­ver­trag · Ver­tre­tungs­re­ge­lung …
20.10.2010 als Carl Zeiss SMT AG
Formwechsel: Carl Zeiss SMT GmbH
07.10.2010
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
07.10.2010
Originaldokument: »Liste der Aufsichtsratsmitglieder zum 07.10.2010«
06.10.2010 über Carl Zeiss NTS GmbH
Nicht mehr Beherrschung, Nicht mehr Gewinnabführung: Carl Zeiss NTS GmbH
23.09.2010
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
01.04.2010 als Carl Zeiss SMT AG
Patent: Projektionsbelichtungsanlage
11.02.2010 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Vorstand (1 Person)
29.01.2010
Nicht mehr Vorstand (1 Person)
Jahr 2009 in Epobase
35 europäische Patentbekanntmachungen: Katadioptrisches Projektionsobjektiv …
Jahr 2009 in Dpmap
89 Patentanmeldungen: Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage in der Halbleiterlitographie und Projektionsbelichtungsanlage …
10.11.2009 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
Jahr 2009 in Epobase
28 europäische Patentbekanntmachungen: Optische Baugruppe zur Führung eines Strahlungsbündels …
12.05.2009 als Carl Zeiss SMT AG
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person) · Anschrift
01.05.2009 in Fk
Förderung (8.686.016 €): EUV Lithographie für den 22nm Knoten - Teilvorhaben: EUV Lithographieoptik
01.05.2009 in Fk
Förderung (653.597 €): EUV Lithographie für den 22nm-Knoten - Teilvorhaben: EUV Maskenreparatur und lokale Entfernung von Fremdmaterialien durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse
30.04.2009
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person) · Anschrift
15.04.2009
Wortmarke: »FlexIllu«
Jahr 2008 in Dpmap
99 Patentanmeldungen: Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie …
Jahr 2008 in Epobase
64 europäische Patentbekanntmachungen:  …
25.11.2008 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
28.10.2008 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Prokura: Karl Lamprecht
Jahr 2008 in Epobase
9 europäische Patentbekanntmachungen: Optisches Abbildungssystem und Projektionsbelichtungsanlage Dafür …
18.08.2008
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
11.08.2008
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
15.07.2008 als Carl Zeiss SMT AG
Satzung · Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
04.07.2008
Satzung · Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
17.06.2008
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
17.06.2008
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
17.06.2008
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
28.04.2008
Prokura (1 Person)
04.03.2008
Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
Jahr 2007 in Epobase
81 europäische Patentbekanntmachungen: Verfahren zur Einstellung einer Gewünschten Optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage …
Jahr 2007 in Dpmap
44 Patentanmeldungen: Optische Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung einer solchen …
Jahr 2007 in Epobase
7 europäische Patentbekanntmachungen: Optisches Element und Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie …
09.10.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Satzung
25.09.2007
Satzung
19.09.2007
Originaldokument: »Gesellschaftsvertrag / Satzung / Statut«
22.05.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Patent: Projektionsbelichtungsanlage
24.04.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
13.03.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Prokura (3 Personen) · Vorstand (3 Personen) · Prokura (1 Person)
13.03.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
27.02.2007
Vorstand (4 Personen) · Nicht mehr Prokura (3 Personen) · Prokura (1 Person)
22.02.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Patent: Projektionsbelichtungsanlage
16.01.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Vorstand (1 Person)
Jahr 2006 in Dpmap
36 Patentanmeldungen: Optisches Element mit hydrophober Beschichtung, Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage damit …
Jahr 2006 in Epobase
97 europäische Patentbekanntmachungen: Beleuchtungssystem mit mehreren Lichtquellen …
Jahr 2006 in Epobase
20 europäische Patentbekanntmachungen: Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Abbildungsfehlern …
11.12.2006
Wortmarke: »Ermöglichung der Nano-Zeitalter-Welt«
27.11.2006 über Carl Zeiss SMT GmbH
Beteiligung an: TCZ GmbH
03.07.2006
Prokura (2 Personen)
01.07.2006 in Fk
Förderung (2.972.602 €): '193nm Lithographie zur Erzeugung von 32nm Strukturen' innerhalb der Gesamtmassnahme 'Lithographie fuer den 45nm- und 32nm-Knoten'
26.06.2006 als Carl Zeiss SMT AG
Ein­tra­gung · Prokura (6 Personen) · Vorstand (2 Personen) · Kapital: 50 Mio. € · Fir­men­sitz: Oberkochen · Rechts­form: AG · Name: Carl Zeiss SMT AG · Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
01.04.2006 in Fk
Förderung (239.195 €): Fluoridische Laserkomponenten für den UV-X Spektralbereich ( FLUX) - Teilvorhaben: Verbesserte und neue Prozesse für die Beschichtung von VUV Laserkomponenten
Jahr 2005 in Epobase
83 europäische Patentbekanntmachungen: Optisches Projektionssystem …
Jahr 2005 in Dpmap
26 Patentanmeldungen: Optische Abbildungseinrichtung und Abbildungsverfahren mit Bestimmung von Abbildungsfehlern …
Jahr 2005 in Epobase
12 europäische Patentbekanntmachungen: Optisches Abbildungssystem mit Polarisationsmitteln …
19.10.2005
Wortmarke: »Starlith«
01.07.2005 in Fk
Förderung (6.321.920 €): 'EUV Lithographieoptik' innerhalb der Gesamtmassnahme 'Lithographie fuer den 45nm- und 32nm-Knoten'
09.06.2005
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
02.06.2005
Originaldokument: »Liste der Gesellschafter«
24.02.2005
Wortmarke: »NaWoTec«
24.02.2005
Wortmarke: »NaWoTec«
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Erwähnungen

26.11.2025 in Ler
Direkte Muttergesellschaft
26.11.2025 in Ler
Ultimativer Eigner
25.07.2025 in Hrcdd
Beherrschung, Gewinnabführung: Carl Zeiss EUV Metrology and lnspection GmbH
19.11.2024 in Hrdk auch 11.06.2024
Carl Zeiss EUV Metrology and lnspection GmbH: »Liste der Gesellschafter«
10.12.2008 in Hrcdd
Beherrschung, Gewinnabführung: Carl Zeiss NTS GmbH
18.10.2006 in Hrcdd
Kommanditist: Carl Zeiss Oberkochen Grundstücks GmbH & Co.KG
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