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Versum Materials Inc., Wilmington, USA

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Versum Materials Inc.

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Name

Versum Materials Inc.
Versum Materials US LLC

Identifikation

Lei
5493002OKGMKU0JRO229 5493006QY0E0EST2ZX08

Adresse

c/o THE CORPORATION TRUST COMPANY, CORPORATION TRUST CENTER, 1209 Orange St, Wilmington 19801, USA

Historie

Netzwerk

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Rechtliche Struktur

JOBS BEI NORTH DATA

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Beteiligungsverhältnisse Premium + Ownership & Flags Add-on
Premium + Ownership & Flags Add-on
Gesellschafter und Investoren
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Publikationen

28.10.2026
Patent: Zusammensetzungen und Verfahren Damit für Filme mit Silicium und BOR
11.06.2026 über E. Merck KG auch 11.06.2026, 11.06.2026, 26.05.2025, 21.05.2024, 06.04.2023, 22.04.2022, 26.04.2021, 09.06.2020
Gesellschafter: E. Merck KG
06.05.2026 über MERCK KGaA auch 06.06.2025, 28.05.2025, 05.08.2024, 20.09.2023, 17.04.2023, 17.04.2023, 06.05.2022, 02.05.2022, 09.06.2020, 08.06.2020
Gesellschafter: MERCK KGaA
Jahr 2025 in Epobase
4 europäische Patentbekanntmachungen: Neue Vorläufer zur Abscheidung von Filmen mit Hohem Elastizitätsmodul …
08.08.2024 als Versum Materials US LLC
Patent: System und Verfahren für eine Konstruktionsgerechte Zeitverriegelung zum Face-TO-Face-Bonden
18.07.2023 als Versum Materials US LLC
Patent: Optimierung der Bodenelektrode zur Verbesserung der Ferroelektrischen Leistung in Hafnia-Basiertem Oxid mit Back-END-OF-Line (Beol)-Kompatiblem Verfahren
25.01.2023 als Versum Materials US LLC
Patent: Halogenid-Funktionalisierte Cyclotrisilazane ALS Vorstufen zur Abscheidung von Siliziumhaltigen Filmen
29.11.2022 als Versum Materials US LLC
Patent: Chemisch-Mechanische Polieraufschlämmungen von Wolfram
18.10.2022 als Versum Materials US LLC
Patent: Silanole und Silandiole
13.07.2022 als Versum Materials US LLC
Patent: Verfahren zur Abscheidung von Siliciumhaltigen Filmen
30.11.2021 als Versum Materials US LLC
Patent: Selektive Thermische Atomlagenabscheidung
15.11.2021 als Versum Materials US LLC
Patent: Selektive Abscheidung von Silizium und Sauerstoff Enthaltendem Dielektrischem Film auf Dielektrika
23.07.2021 als Versum Materials US LLC
Patent: Cyclosiloxane und Damit Hergestellte Folien
Jahr 2020 in Epobase
4 europäische Patentbekanntmachungen: Fotolack-Entferner …
03.03.2020
Wort-/Bildmarke: »SYTON«
06.08.2019
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
07.05.2019
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
02.05.2019 als Versum Materials US LLC
Wortmarke: »Com-PAT«
14.03.2019 als Versum Materials US LLC
Wortmarke: »K-REST«
07.02.2019
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
21.11.2018
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
08.08.2018
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
25.05.2018 als Versum Materials US LLC
Wort-/Bildmarke: »SELECTFLUOR«
09.05.2018
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
08.02.2018
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
14.12.2017 als Versum Materials US LLC
Wort-/Bildmarke: »nCtrl«
22.11.2017
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
Jahr 2017 in Epobase
4 europäische Patentbekanntmachungen: Disubstituierte Alkin-Dicobalt-Hexacarbonyl-Verbindungen, Verfahren zur Herstellung und Verfahren zur Verwendung Davon …
04.08.2017
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
13.06.2017
Wort-/Bildmarke: »SELECTFLUOR«
12.06.2017
Wort-/Bildmarke: »SYTON«
05.05.2017
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
14.02.2017
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
21.12.2016
EDGAR System der U.S. Securities and Exchange Commission
28.07.2016 als Versum Materials US LLC
Patent: Zusammensetzungen und Verfahren zur Abscheidung von Siliciumnitridfilmen
29.01.2016 als Versum Materials US LLC
Patent: Verfahren und Vorläufer zur Herstellung von 3D-Vorrichtungen
28.08.2015 als Versum Materials US LLC
Patent: Ultraschall-Flüssigkeitsstand-Mess-System
16.06.2015 als Versum Materials US LLC
Patent: Zusammensetzung für eine Dampf-/Gasphasenabscheidung eines Dielektrischen Films, Umfassend eine Alkyl-Alkoxysilacyclische Verbindung
03.10.2014 als Versum Materials US LLC
Patent: Verfahren zur Abscheidung von Siliciumnitridfilmen
13.08.2013 als Versum Materials US LLC
Patent: Vorläufer für GST-Filme in ALD/CVD-Verfahren
24.05.2013 als Versum Materials US LLC
Patent: Behälter mit Filter
01.06.2012 als Versum Materials US LLC
Patent: Zusammensetzungen und Verfahren zur Ablagerung von Kohlenstoffdotierten Siliciumhaltigen Filmen
25.04.2012 als Versum Materials US LLC
Patent: Reinigung von Führungsrahmen zur Verbesserung eines Drahtbindungsverfahrens
19.10.2011 als Versum Materials US LLC
Patent: Tank mit einer Ventilbüchse
10.06.2011 als Versum Materials US LLC
Patent: Zylinderoberflächenbehandlung für Monochlorsilan
04.02.2011 als Versum Materials US LLC
Patent: Verfahren zur Herstellung von siliciumhaltigen Schichten
23.12.2010 als Versum Materials US LLC
Patent: Ausgangsstoffe zur Bereitstellung von Materialien mit niedriger Dielektrizitätskonstante und ausgezeichneten Integrationseigenschaften
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Erwähnungen

31.07.2024 in Psc
Companies House - Persons with Significant Control
01.06.2023 in Ler
Direkte Muttergesellschaft
01.06.2023 in Ler
Ultimativer Eigner
29.01.2022 in Ler
Direkte Muttergesellschaft
29.01.2022 in Ler
Ultimativer Eigner
08.02.2021 in Ler
Nicht mehr Ultimativer Eigner
08.02.2021 in Ler
Nicht mehr Ultimativer Eigner
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