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Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen

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Name

Carl Zeiss SMT GmbH
Carl Zeiss SMT AG

Register

Ut
Amtsgericht Ulm HRB 725667
Ut
Amtsgericht Ulm HRB 501473
Lei
529900DAXFMKONEX8260

Adresse

Rudolf-Eber-Str. 2, D-73447 Oberkochen

Gegenstand

Die Entwicklung, Herstellung, Be- und Verarbeitung sowie der Vertrieb von optischen, elektronen-optischen, elektronischen und feinmechanischen Erzeugnissen, Instrumenten und sonstigen Geräten zur Verwendung in der Halbleiterindustrie einschließlich der Erbringung von damit zusammenhängenden Dienstleistungen.

Finanzielle Entwicklung

Historie

Gesetzliche Vertreter

Marketing & Tech

M & A / Kontrolle

Netzwerk

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Publikationen

Jahr 2023 in Dp
101 Patentbekanntmachungen: Optisches System, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren…
25.01.2023
Patent: Steuerungssystem, Optisches System und Verfahren
11.01.2023
Patent: Vorrichtung und Verfahren zum Testen von Photonischen Integrierten Schaltungen
Jahr 2022 in Dp
231 Patentbekanntmachungen: Endpunktbestimmung durch Induzierte Desorption von Gasen und Analyse der Wiederbedeckung…
Jahr 2022 in Epobase
11 europäische Patentbekanntmachungen: Beleuchtungssystem für eine Lithografische Projektionsbelichtungsvorrichtung für EUV-Projektion und Verfahren zum Betreiben eines Derartigen Beleuchtungssystems…
09.09.2022
Nicht mehr Geschäftsführer: Andreas Dorsel
01.08.2022
Prokura: Christoph Hensche
23.06.2022 über Carl Zeiss AG, auch 22.06.2022, 01.06.2021, 05.05.2021, 13.07.2020, 06.07.2020, 02.08.2019, 02.08.2019, 16.08.2018, 16.08.2018, 07.06.2017, 01.06.2017, 03.08.2016, 03.08.2016, 31.07.2015, 08.07.2015, 14.07.2014, 02.05.2014, 20.06.2013, 12.06.2013, 23.07.2012, 25.04.2012, 19.08.2011, 19.08.2011, 01.06.2010, 01.06.2010, 10.11.2009, 13.08.2009, 18.08.2008, 17.07.2008.
Gesellschafter: Carl Zeiss AG
05.05.2022
Wortmarke: xVerse
14.04.2022
Wortmarke: xVerse
24.02.2022
Prokura: Jens Werner
24.02.2022
Auf­sichts­rats­lis­te
20.01.2022
Geschäftsführer: Andreas Peter Pecher · Nicht mehr Geschäftsführer: Markus Weber
Jahr 2021 in Dp
173 Patentbekanntmachungen: Bauteilverbindung, Lithographieanlage und Verfahren zum Auslegen einer Bauteilverbindung…
Jahr 2021 in Epobase
14 europäische Patentbekanntmachungen: Spiegelsystem…
01.09.2021
Wortmarke: ArTeMiS
01.07.2021
Förderung (550.682 €): Herstellungstechnologien und -Prozesse für hochperformante 2nm-Elektronik - ID2PPAC -
01.07.2021
Förderung (2.936.113 €): Herstellungstechnologien und -Prozesse für hochperformante 2nm-Elektronik - ID2PPAC -
21.05.2021
EU-Förderung (4.039.071 €): Integration von Prozessen und MoDules für den 2 nm-Knoten, der die Anforderungen von Power Performance Area und Cost erfüllt
14.04.2021
Wortmarke: CIRGEN
Jahr 2020 in Dp
171 Patentbekanntmachungen: Optisches System für eine Lithographieanlage…
Jahr 2020 in Epobase
36 europäische Patentbekanntmachungen: Optische Elemente Enthaltend Magnetostriktives Material…
30.10.2020
Wortmarke: CIRGEN
24.07.2020
Wortmarke: MAVRIX
01.06.2020
EU-Förderung (2.695.398 €): IC-Technologie für den 2nm-Knoten
01.06.2020
Förderung (1.933.003 €): Technologien für die neueste 2nm-Mikroelektronik - IT2 -
05.02.2020
Wortmarke: AIMS
Jahr 2019 in Dp
174 Patentbekanntmachungen: Diffraktives optisches Element sowie Verfahren zu dessen Herstellung…
Jahr 2019 in Epobase
98 europäische Patentbekanntmachungen: Vorrichtung und Verfahren zur Charakterisierung der Oberflächenform eines Testobjekts…
12.12.2019
Auf­sichts­rats­lis­te
23.10.2019
Geschäftsführer: Markus Weber
17.10.2019
Vorstand: Markus Weber · Nicht mehr Geschäftsführer: Karl Lamprecht
01.10.2019
Förderung (5.200.962 €): Pilotlinie für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - PIN3S -, Teilvorhaben: Pilot-Integration Photo- und Elektronenoptischer Systeme für den 3nm…
20.05.2019
EU-Förderung (5.913.176 €): Pilotintegration der 3nm Semiconducter Technologie
Jahr 2018 in Dp
134 Patentbekanntmachungen: Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage…
Jahr 2018 in Epobase
86 europäische Patentbekanntmachungen: Spiegel für EUV-Lithografie…
07.12.2018
Wortmarke: RepScan
01.10.2018
Förderung (3.999.177 €): Technologien für die nächste Generation höchstintegrierter Mikroelektronik - TAPES3 -, Teilvorhaben: EUV Projektionsobjektiv für die 3nm Auflösung
22.08.2018
Geschäftsführer: Torsten Reitze · Nicht mehr Geschäftsführer: Axel Jaeger
28.06.2018
EU-Förderung (4.000.000 €): Technologiefortschritte für Pilotlinie von Enhanced Semiconductors für 3nm
13.06.2018
Auf­sichts­rats­lis­te
17.01.2018
Auf­sichts­rats­lis­te
Jahr 2017 in Dp
90 Patentbekanntmachungen: Projektionsbelichtungsanlage mit Partikelfalle…
Jahr 2017 in Epobase
84 europäische Patentbekanntmachungen: Anpassung einer Trajektorie…
27.06.2017
Ge­sell­schafts­ver­trag
15.05.2017
Gewinnabführung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Beherrschung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Nicht mehr Beherrschung: Carl Zeiss AG · Nicht mehr Gewinnabführung: Carl Zeiss AG
15.05.2017
Gewinnabführung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Beherrschung: Carl Zeiss SMT Holding GmbH & Co. KG · Nicht mehr Beherrschung: Carl Zeiss AG · Nicht mehr Gewinnabführung: Carl Zeiss AG
01.04.2017
EU-Förderung (5.596.579 €): Technologiefortschritte und Schlüssel-Enabler für Modulintegration für 5 nm
14.02.2017
Nicht mehr Geschäftsführer: Hermann Gerlinger · Ge­sell­schafts­ver­trag
16.01.2017
Förderung (52,4 Mio. €): EUV Optiksysteme für sub-10nm Auflösung - Aufbau einer ersten Fertigungslinie
Jahr 2016 in Epobase
79 europäische Patentbekanntmachungen: Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer Derartigen Abbildenden Optik…
Jahr 2016 in Dp
61 Patentbekanntmachungen: Sondensystem und Verfahren zum Aufnehmen einer Sonde eines Rastersondenmikroskops…
07.12.2016
Geschäftsführer: Karl Lamprecht
06.10.2016
Auf­sichts­rats­lis­te
23.09.2016 über Phenom-World B.V.
EU-Förderung (249.216 €): Niedrigenergie-ELEctron-getriebene Chemie zum Vorteil aufkommender NAno-Fertigungsmethoden
02.08.2016
Auf­sichts­rats­lis­te
01.04.2016
EU-Förderung (3.600.000 €): Technologiefortschritte und Key Enabler für 5 nm
01.04.2016
Förderung (3.598.844 €): Fertigungsprozesse integrierter Schaltungen mit bisher unerreichten Strukturgrößen von bis zu 5 nm - TAKE5 -, Teilvorhaben: EUV Beleuchtungsoptik für 5 nm Projektionssysteme
08.03.2016
Auf­sichts­rats­lis­te
03.02.2016
Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2015 in Dp
56 Patentbekanntmachungen: Projektionsbelichtungsanlage mit gelöteter Dichtung…
Jahr 2015 in Epobase
103 europäische Patentbekanntmachungen: …
01.10.2015
Förderung (757.572 €): Robuste Multisensorik zur Zustandsüberwachung in Industrie-4.0-Anwendungen - RoMulus -, Teilvorhaben: MEMS-Modellbildung und Industrie 4.0-Anwendungen in der Optik
18.05.2015 über Carl Zeiss SMS GmbH, auch 04.05.2015.
Verschmelzung: Carl Zeiss SMS GmbH
12.05.2015 über Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Verschmelzung: Carl Zeiss Laser Optics GmbH
12.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss Laser Optics GmbH
12.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss SMS GmbH
12.05.2015
Verschmelzung: Carl Zeiss SMS GmbH
01.04.2015
EU-Förderung (2.357.991 €): Sieben-Nanometer-Technologie
01.04.2015
Förderung (2.273.731 €): Seven Nanometer Technology - SeNaTe -, Teilvorhaben: Projektionsobjektiv mit Sieben Nanometer Auflösung
01.04.2015
Förderung (43.162 €): Seven Nanometer Technology - SeNaTe -, Teilvorhaben: Reparatur und lokale Behebung von Defekten auf EUV Masken durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse
28.01.2015
Auf­sichts­rats­lis­te
Jahr 2014 in Dp
43 Patentbekanntmachungen: Beleuchtungsoptik für ein Metrologiesystem sowie Metrologiesystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik…
Jahr 2014 in Epobase
72 europäische Patentbekanntmachungen: Verfahren zum Vermessen einer Sphärisch-Astigmatischen Optischen Fläche mit Fizeau Interferometrie…
01.10.2014
Förderung (0,00 €): European 450mm Lithography and Metrology Development for Advanced Patterning - E450LMDAP -, Teilvorhaben: Image Placement Optimizer, high NA EUV Projektionssystem and hyper NA EUV…
11.08.2014
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2013 in Dp
49 Patentbekanntmachungen: Mikroskop und Verfahren zur Charakterisierung von Strukturen auf einem Objekt…
Jahr 2013 in Epobase
103 europäische Patentbekanntmachungen: …
19.11.2013
Gewinnabführung: Carl Zeiss AG · Beherrschung: Carl Zeiss AG
19.11.2013
Auf­sichts­rats­lis­te
29.10.2013 über Carl Zeiss SMS GmbH
Beherrschung, Gewinnabführung: Carl Zeiss SMS GmbH
25.09.2013 über Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Beherrschung, Gewinnabführung: Carl Zeiss Laser Optics GmbH
09.07.2013
Nicht mehr Prokura (1 Person)
22.05.2013
Auf­sichts­rats­lis­te
27.02.2013
Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2012 in Dp
62 Patentbekanntmachungen: Verfahren zur Herstellung eines reflektiven optischen Elements für die EUV-Lithographie…
Jahr 2012 in Epobase
86 europäische Patentbekanntmachungen: …
07.08.2012
Prokura: Andreas Zeiler · Nicht mehr Prokura (1 Person)
01.07.2012
Förderung (124.260 €): 'Schaltplan-basierter Entwurf von MEMS für Anwendungen in Optik und Robotik' (MEMS2015) Teilprojekt: Erstellung von Anforderungen und Erprobung der integrierten MEMS - ASIC…
19.06.2012
Auf­sichts­rats­lis­te
01.06.2012
Förderung (4.561.520 €): EUV-Projektionsoptik für 14nm Auflösung (ETIK) - Teilvorhaben: EUV Beleuchtungssystem und Spiegelfreiformflächentechnologie
21.05.2012
Geschäftsführer: Axel Jaeger
08.05.2012
Geschäftsführer: Axel Jaeger
23.04.2012
Geschäftsführer: Axel Jaeger · Nicht mehr Geschäftsführer (1 Person)
12.03.2012
Auf­sichts­rats­lis­te
21.02.2012
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person)
08.02.2012
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person)
Jahr 2011 in Dp
39 Patentbekanntmachungen: Metrologiesystem…
Jahr 2011 in Epobase
87 europäische Patentbekanntmachungen: Projektionssystem mit einem polarisationsmodulierenden optischen Element mit variabler Dicke…
19.05.2011
Gewinnabführung: Carl Zeiss AG · Beherrschung: Carl Zeiss AG
05.05.2011
Gewinnabführung: Carl Zeiss AG · Beherrschung: Carl Zeiss AG
08.02.2011
Auf­sichts­rats­lis­te
25.01.2011
Nicht mehr Prokura (2 Personen) · Prokura (1 Person)
11.01.2011
Nicht mehr Prokura (2 Personen) · Prokura (1 Person)
Jahr 2010 in Dp
49 Patentbekanntmachungen: Verfahren zum Bestimmen eines Beugungsgitters…
Jahr 2010 in Epobase
69 europäische Patentbekanntmachungen: …
03.12.2010
Wortmarke: RegC
20.10.2010 als Carl Zeiss SMT AG
Formwechsel: Carl Zeiss SMT GmbH
20.10.2010
PPA (5 Personen) · GF (3 Personen) · Formwechsel: Aktiengesellschaft Carl Zeiss SMT AG · Anschrift · Kapital: 50 Mio. € · Ge­sell­schafts­ver­trag · Ver­tre­tungs­re­ge­lung …
06.10.2010 über Carl Zeiss NTS GmbH
Nicht mehr Beherrschung, Nicht mehr Gewinnabführung: Carl Zeiss NTS GmbH
11.02.2010 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Vorstand (1 Person)
29.01.2010
Nicht mehr Vorstand (1 Person)
Jahr 2009 in Epobase
62 europäische Patentbekanntmachungen: Katadioptrisches Projektionsobjektiv…
Jahr 2009 in Dp
29 Patentbekanntmachungen: Reinigungsmodul, EUV-Lithographievorrichtung und Verfahren zu seiner Reinigung…
10.11.2009 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
12.05.2009 als Carl Zeiss SMT AG
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person) · Anschrift
01.05.2009
Förderung (8.686.016 €): EUV Lithographie für den 22nm Knoten - Teilvorhaben: EUV Lithographieoptik
01.05.2009
Förderung (653.597 €): EUV Lithographie für den 22nm-Knoten - Teilvorhaben: EUV Maskenreparatur und lokale Entfernung von Fremdmaterialien durch strahleninduzierte Oberflächenprozesse
30.04.2009
Prokura (1 Person) · Nicht mehr Prokura (1 Person) · Anschrift
Jahr 2008 in Dp
31 Patentbekanntmachungen: Verfahren und Vorrichtung für die Steuerung einer Vielzahl von Aktuatoren einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie…
Jahr 2008 in Epobase
73 europäische Patentbekanntmachungen: …
25.11.2008 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
28.10.2008 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Prokura: Karl Lamprecht
15.07.2008 als Carl Zeiss SMT AG
Satzung · Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
04.07.2008
Satzung · Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
28.04.2008
Prokura (1 Person)
04.03.2008
Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
Jahr 2007 in Epobase
88 europäische Patentbekanntmachungen: Verfahren zur Einstellung einer Gewünschten Optischen Eigenschaft eines Projektionsobjektivs sowie Mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage…
Jahr 2007 in Dp
12 Patentbekanntmachungen: Verfahren und Vorrichtung zur Schichtoptimierung mittels Radikale…
09.10.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Satzung
25.09.2007
Satzung
24.04.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
13.03.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Prokura (3 Personen) · Vorstand (3 Personen) · Prokura (1 Person)
13.03.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Auf­sichts­rats­lis­te
27.02.2007
Vorstand (4 Personen) · Nicht mehr Prokura (3 Personen) · Prokura (1 Person)
16.01.2007 als Carl Zeiss SMT AG
Nicht mehr Vorstand (1 Person)
Jahr 2006 in Epobase
112 europäische Patentbekanntmachungen: Beleuchtungssystem mit mehreren Lichtquellen…
11.12.2006
Wortmarke: Enabling the Nano Age World
Jahr 2006 in Dp
7 Patentbekanntmachungen: Anordnung zur Beleuchtung eines Objektes…
03.07.2006
Prokura (2 Personen)
01.07.2006
Förderung (2.972.602 €): '193nm Lithographie zur Erzeugung von 32nm Strukturen' innerhalb der Gesamtmassnahme 'Lithographie fuer den 45nm- und 32nm-Knoten'
26.06.2006 als Carl Zeiss SMT AG
Neu­ein­tra­gung · Prokura (6 Personen) · Vorstand (2 Personen) · Kapital: 50 Mio. € · Fir­men­sitz: Oberkochen · Rechts­form: AG · Name: Carl Zeiss SMT AG · Un­ter­neh­mens­ge­gen­stand
01.04.2006
Förderung (239.195 €): Fluoridische Laserkomponenten für den UV-X Spektralbereich ( FLUX) - Teilvorhaben: Verbesserte und neue Prozesse für die Beschichtung von VUV Laserkomponenten
Jahr 2005 in Epobase
89 europäische Patentbekanntmachungen: Optisches Projektionssystem…
Jahr 2005 in Dp
13 Patentbekanntmachungen: Katadioptrisches Projektionsobjektiv mit Zwischenbildern…
01.07.2005
Förderung (6.321.920 €): 'EUV Lithographieoptik' innerhalb der Gesamtmassnahme 'Lithographie fuer den 45nm- und 32nm-Knoten'
01.04.2005
Wortmarke: NaWoTec

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